電阻蒸發(fā)+磁控鍍膜機(jī)

詳細(xì)內(nèi)容：產(chǎn)品特點(diǎn): 該機(jī)型是在電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上，配備磁控圓柱和磁控平面靶。設(shè)備即可以鍍鋁、硬鉻等金屬膜層，也可以鍍氟化鎂等非金屬膜。配備的磁控靶，可以進(jìn)行離子濺射鍍鋁、銅、不銹鋼、貴金屬等，可以精確的控制膜厚，是鍍各種塑膠、陶瓷、玻璃、手機(jī)配件等材料的首選機(jī)器，一機(jī)多用是該機(jī)型的價值所在。 技術(shù)參數(shù): ▲真空室箱體：主要規(guī)格有1000*1200mm，1200*1500mm、1800*1950箱式結(jié)構(gòu)、雙開門，并可根據(jù)用戶產(chǎn)品的要求定做非標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品。 ▲夾具方式 ：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 ▲控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計(jì)控制，進(jìn)氣穩(wěn)定，反映速度快，可以配加自動壓強(qiáng)控制。 ▲靶:除電阻蒸發(fā)外，另配置圓柱、平面靶，靶材根據(jù)實(shí)際要求選擇。 ▲電源：配備直流電源，高壓轟擊電源，及蒸發(fā)大電流電源。 ▲抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10‾³Pa≤8min　極限真空度8*10‾4Pa ▲抽氣系統(tǒng)：主要配備蘭州擴(kuò)散泵，羅次泵，旋片泵，按照真空室大小確定。 ▲控制系統(tǒng)： 可以選用手動控制；計(jì)算機(jī)控制，觸摸屏面板控制。 ▲其他：配備電熱加熱系統(tǒng)，可以選配擴(kuò)散泵自動油溫控制裝置。冷水機(jī)組等等