磁控+多弧離子鍍膜機

詳細(xì)內(nèi)容：產(chǎn)品特點: 該機型在多弧離子鍍膜機的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點，適合鍍各種復(fù)合膜層，，可以做到多復(fù)合膜層一次性完成，膜層具有很高的結(jié)合力、硬度、耐磨系數(shù)，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復(fù)合膜層的制備。 技術(shù)參數(shù): ▲真空室箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計非標(biāo)產(chǎn)品 ▲夾具方式 ：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)。 ▲控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進(jìn)氣穩(wěn)定，反映速度快。 ▲靶:采用整體制造技術(shù)，嚴(yán)格縝密的磁場設(shè)計和磁場布局，濺射刻蝕均勻。 ▲電源：配置有高頻直流電源（20KW、40KW等規(guī)格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調(diào)節(jié)），逆變電弧電源，并可根據(jù)實際的情況加裝離子源等輔助設(shè)施。 ▲抽氣系統(tǒng)：采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據(jù)其真空室大小確定合理型號。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進(jìn)口泵等。 ▲抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min 極限真空度8*10‾4Pa 控制系統(tǒng)